Se espera que esta medida reduzca la dependencia de la compañía de una producción concentrada en Japón y contribuya a mitigar el riesgo de posibles interrupciones en el suministro.
La planta de Vietnam, inaugurada la semana pasada, se dedicará a la trituración, limpieza y análisis de polisilicio, materia prima fundamental para la fabricación de obleas de semiconductores.
Tokuyama ha invertido 60 millones de dólares en estas instalaciones, que tendrán una capacidad anual prevista de cuatro mil toneladas. Tras un periodo de pruebas, se espera que la producción comercial comience en 2027.
Durante la ceremonia de inauguración en Ciudad Ho Chi Minh, el presidente de Tokuyama, Hiroshi Yokota, afirmó que la nueva planta constituye un paso importante en la estrategia de crecimiento de la compañía.
La instalación proporcionará a la empresa una sólida base de producción en el extranjero, en momentos en que Tokuyama reestructura su red de fabricación de polisilicio, hasta ahora concentrada en su planta de Japón.
Los trabajadores triturarán las barras de polisilicio en pequeños fragmentos que puedan introducirse fácilmente en los hornos de los clientes. El proceso requiere una importante intervención manual para reducir al mínimo el riesgo de contaminación por partículas metálicas procedentes de la maquinaria y, al mismo tiempo, permitir ajustes precisos durante el tratamiento. Por ello, la planta necesitará una mano de obra cualificada y fiable.
Tokuyama prevé finalizar la próxima primavera la construcción de una planta de síntesis y deposición de polisilicio en Malasia. Las instalaciones serán operadas a través de una empresa conjunta con la surcoreana OCI, con una inversión total estimada en unos 300 millones de dólares.
Una vez que ambas plantas del Sudeste Asiático entren en funcionamiento, la capacidad total de producción de Tokuyama, incluida su instalación en Japón, aumentará un 50 por ciento, hasta alcanzar las 12 mil 500 toneladas anuales.
Tokuyama, capaz de refinar el polisilicio hasta un nivel de pureza en el que las impurezas se reducen a una parte por mil millones, ocupa el tercer lugar mundial en la producción de polisilicio de grado semiconductor, con una cuota de mercado de alrededor del 20 por ciento.
Sin embargo, la concentración de la producción en una única planta también ha convertido esta instalación en un punto vulnerable, ya que cualquier interrupción podría afectar al suministro de toda la industria. El presidente de Tokuyama, Tomohiro Inoue, señaló que, desde la pandemia de Covid-19, los clientes exigen cada vez más fuentes de suministro diversificadas.
El Gobierno japonés ha concedido a Tokuyama una subvención de cuatro mil millones de yenes, equivalentes a 25,2 millones de dólares, para respaldar su entrada en el mercado vietnamita. La empresa ha optado por distribuir sus instalaciones de producción entre países aliados del Sudeste Asiático con el objetivo de garantizar un suministro estable, en un contexto en el que fabricantes de chips como Rapidus y TSMC están estableciendo nuevas plantas en Japón.
Según un informe de la Asociación de la Industria de Semiconductores (SEMI), se prevé que los envíos de obleas de silicio alcancen los 15 millones 500 mil pulgadas cuadradas en 2028, lo que representaría un incremento de alrededor del 20 por ciento respecto a 2025. La demanda de polisilicio de ultraalta pureza crece al ritmo de las inversiones en inteligencia artificial (IA), que impulsan la expansión de componentes como la memoria de gran ancho de banda.
Inoue indicó que las previsiones de los clientes apuntan a que la demanda superará la capacidad de la planta japonesa de Tokuyama hacia 2027. De acuerdo con las proyecciones actuales, se espera que la producción adicional procedente de Vietnam y Malasia sea absorbida por completo en un plazo de tres a cuatro años.
La planta de Tokuyama en Vietnam tiene potencial para casi duplicar su capacidad. La empresa estudiará asimismo la posibilidad de ampliar la capacidad de sus tres instalaciones, dado que su planta japonesa ya se aproxima a su límite de producción.
